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【小结】综上所述，临汾力提作者实现了B掺杂SiC纳米带高性能PD研发，临汾力提在405nm光激发下的响应度为6.37×105 A·W-1，外量子效率为2.0×108%，探测率为6.86×1014Jones，响应时间为0.05s，并且在300℃高温环境下展现出180天的长效稳定性，表明该PD在高温等苛刻服役条件下，具有潜在的应用前景。碳化硅(SiC)是第三代半导体，供电公司具有宽禁带、供电公司高击穿场强、高热导率以及突出的稳定性，在研发高温、高压、高功率和高辐射等苛刻工作环境下服役的光电器件上，优势显著。
c)5V偏压下，营销不同光强下PD的时间-响应曲线。稽查d)单根B掺杂纳米带的TEM图。化助d)单根SiC纳米带PD的SEM图。
质增b)B掺杂3C-SiC纳米带的Si2pXPS谱。c,d)5V偏压下，山西数字0.31mol%B掺杂SiC纳米带PD在黑暗和405nm光照下I-V和对数I-V特性曲线。
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供电公司f)B掺杂前后纳米带的XRD图。1、营销如果狗狗吐出来的是食物，而且又马上把食物吃回去，之后就没事了。
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